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真空离子镀膜设备的工作原理|车灯镀膜设备

2023-05-23 08:42:23

真空离子镀设备是一种利用高压电场加速离子束并使其击中物体表面,从而形成一层薄膜的设备。其工作原理可分为三个部分,即真空系统、离子源和靶材。车灯镀膜设备

一、真空系统

真空是离子镀设备操作的基本条件,其反应的三个因素为压力、温度和饱和度。为了保证反应的准确性和稳定性,真空的要求非常高。因此,真空系统是离子镀设备的关键部分之一。

真空系统主要由抽气系统、压力检测系统、气体备份系统和防止泄漏系统四部分组成。抽气系统可以将设备内的气体抽出,从而达到真空状态。但是这需要一个复杂的管道系统和各种真空泵,包括机械泵、扩散泵、分子泵等。

压力检测系统则可以实时检测真空室内的压力,并根据数据进行调节。一旦泄漏,可以利用气体备份系统来迅速制造真空。而防漏系统则可以预防泄漏的发生,如抽气管道设备侧与设备侧的密封,阀门的合闸、开度等。车灯镀膜设备

二、离子源

离子源是离子镀设备中产生离子束的部分。离子源可以分为两类:主体源和镀膜源。主体源均匀生成离子束,而镀膜源则用于制备特定材料的薄膜。在真空室中,通常使用离子体激发的放电,从而实现离子的产生。离子体激发的放电有电弧放电、直流放电和射频放电。

离子源通常由铈极、阳极、离子源室和镀膜源室等组成。其中离子源室是离子体的主体,在真空室中产生离子。而镀膜源室通常放置固体靶材,通过离子束轰击靶材产生反应,从而制备薄膜。

三、靶材

靶材是离子镀设备中形成薄膜的物质基础。靶材可以是各种材料,如金属、氧化物、氮化物、碳化物等。靶材会通过被离子轰击而产生化学反应,从而形成薄膜。离子镀设备通常采用靶材轮流切换工艺,以避免靶材过早磨损。

在制备薄膜时,靶材会被离子束轰击,使其表面分子逐渐挥发并在基板表面凝结成薄膜。由于离子能够产生物理氧化还原反应,因此在制备薄膜时,还可以在离子束中加入氧、氮等气体,以控制化学反应过程。车灯镀膜设备

总结

真空离子镀设备是一种通过离子反应形成莫非的设备,其工作原理主要包括真空系统、离子源和靶材。离子源会产生离子束,并将其加速到一定速度,然后通过靶材的化学反应在基板表面形成薄膜。通过控制离子束和靶材的反应过程,可以实现各种不同化学反应的薄膜制备。

车灯镀膜设备

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