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立式磁控溅射镀膜机

立式磁控溅射镀膜机

  • 所属分类:镀膜生产线
  • 浏览次数:
  • 发布日期:2020-12-05 09:09:31
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

镀膜设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术,中频溅射技术,并配以国际先进的控制系统,镀制So,/ITO膜层,生产过程全部自动,连续进行。

立式磁控溅射镀膜机主要组成部分:

1.真空室:不锈钢制造,立式,外壁通冷却水,内衬不锈钢挡板。

2.真空系统:蜗轮分子泵系统。

3.蒸发源:直流磁控溅靶和中频磁控溅射靶分别固定在真空室两侧。

4.工件烘烤:采用不锈钢管状加热器配合均热板,确保基片加热均匀性。

5.充气系统:气体质量流量计和压强自动控制仪。

6.电气控制系统:触膜屏与PLC自动控制,人机对话方式来实现系统的数据显示;操作与控制。

7.水冷系统:真空室冷却和阴极冷却,有水压保护开关的水流开关。

主要技术参数:

总功率:350kw

极限真空压力:7X10+pa

平均生产周期:100秒/架

直流磁控靶功率:20kw

中频磁控靶功率:20kw

基片尺寸:750×1200(mm)

立式.jpg

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