本镀膜设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术,中频溅射技术,并配以国际先进的控制系统,镀制So,/ITO膜层,生产过程全部自动,连续进行。
立式磁控溅射镀膜机主要组成部分:
1.真空室:不锈钢制造,立式,外壁通冷却水,内衬不锈钢挡板。
2.真空系统:蜗轮分子泵系统。
3.蒸发源:直流磁控溅靶和中频磁控溅射靶分别固定在真空室两侧。
4.工件烘烤:采用不锈钢管状加热器配合均热板,确保基片加热均匀性。
5.充气系统:气体质量流量计和压强自动控制仪。
6.电气控制系统:触膜屏与PLC自动控制,人机对话方式来实现系统的数据显示;操作与控制。
7.水冷系统:真空室冷却和阴极冷却,有水压保护开关的水流开关。
主要技术参数:
总功率:350kw
极限真空压力:7X10+pa
平均生产周期:100秒/架
直流磁控靶功率:20kw
中频磁控靶功率:20kw
基片尺寸:750×1200(mm)