本镀膜设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术，中频溅射技术，并配以国际先进的控制系统，镀制So，/ITO膜层，生产过程全部自动，连续进行。

立式磁控溅射镀膜机主要组成部分：

1.真空室：不锈钢制造，立式，外壁通冷却水，内衬不锈钢挡板。

2.真空系统：蜗轮分子泵系统。

3.蒸发源：直流磁控溅靶和中频磁控溅射靶分别固定在真空室两侧。

4.工件烘烤：采用不锈钢管状加热器配合均热板，确保基片加热均匀性。

5.充气系统：气体质量流量计和压强自动控制仪。

6.电气控制系统：触膜屏与PLC自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示；操作与控制。

7.水冷系统：真空室冷却和阴极冷却，有水压保护开关的水流开关。

主要技术参数：

总功率：350kw

极限真空压力：7X10+pa

平均生产周期：100秒/架

直流磁控靶功率：20kw

中频磁控靶功率：20kw

基片尺寸：750×1200（mm）