真空镀膜的目的是通过物理或化学的方法在目标表面涂覆透明的电解质膜或金属膜，以改变目标表面的反射和透射特性。涂布方式有真空涂布和光学涂布，但很多用户不知道两者的区别。今天，肇庆科润真空将解释真空镀膜和光学镀膜的区别。

一、概念的区别。

1.真空镀膜是一种在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀膜件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的方法。如真空镀铝、真空镀铬等。

2.光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层(或多层)金属(或电介质)薄膜的工艺过程。光学零件表面镀膜的目的是为了满足减少或增加光反射、分束、分色、滤光和偏振的要求。常用的涂布方法有真空涂布(物理涂布之一)和化学涂布。

第二，原则的不同。

1.真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之，金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上

2.光学干涉广泛应用于薄膜光学。光学薄膜技术常用的方法是真空溅射镀膜玻璃基片，一般用来控制基片对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损耗，提高成像质量，涂覆一层或多层透明介质膜，称为减反射膜或减反射膜。

随着激光技术的发展，对薄膜的反射率和透射率有了不同的要求，这促进了多层高反射薄膜和宽带抗反射薄膜的发展。对于各种应用，高反射膜用于制造偏振反射膜、分色膜、发光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层上多次反射透射，形成多光束干涉。通过控制薄膜层的折射率和厚度，可以获得不同的强度分布，这就是干涉涂层。

第三，方法和材料的区别。

1、真空镀膜材料的方法:

(1)真空蒸发:清洁待涂覆的基材，并将其放入涂覆室中。抽空后，将薄膜加热到高温，使蒸汽达到13.3帕左右，使蒸汽分子飞向衬底表面，凝结成薄膜。

(2)阴极溅射镀膜:将待镀膜基片对着阴极放置，向真空室通入惰性气体(如氩气)，保持压力在1.33~13.3帕左右，然后将阴极与2000伏DC电源连接，然后激发辉光放电。带正电荷的氩离子撞击阴极发射原子，溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜。

(3)化学气相沉积:通过选定的金属化合物或有机化合物的热分解获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀:本质上，离子镀是真空蒸发和阴极溅射的有机结合，兼具两者的工艺特点。表6-9列出了各种涂层方法的优缺点。

2.常见的光学涂层材料。

(1)氟化镁:无色四方粉，纯度高，能提高光学涂层的透光率，不开裂。

(2)二氧化硅:无色透明晶体，熔点高，硬度高，化学稳定性好，纯度高。可用于制备蒸发状态好、无塌陷的高质量Si02涂层。根据应用要求，可分为紫外光、红外光和可见光。

(3)氧化锆:白色重晶态，高折射率耐高温，化学性质稳定，纯度高。用于制备高质量氧化锆涂层时，无裂点。

第四，膜厚的差异。

真空镀膜中金属材料电镀的薄膜厚度一般在3-5微米左右。光学镀膜的膜厚测试可以通过在镀膜机中部顶部安装膜厚测试仪来完成。早期采用光控试验。现在一般用晶振测试镀层厚度。不同的膜有不同的厚度。

以上内容是真空镀膜和光学镀膜的区别介绍，希望对大家有所帮助。真空镀膜的过程很复杂，只是因为需要很高的真空度。光学涂层的涂层材料都是稀有金属，随着科学技术的发展，它们的需求可能会增加。肇庆科润真空镀膜设备有限公司是一家真空镀膜设备，玻璃深加工机械设备制造及相关产品镀膜的科技型多元化公司。如有需要，请联系科润真空设备有限公司！